据韩媒报导，有音讯称SK Siltron已开端供给新一代存储器用晶圆给三星电子、SK海力士等，希望打破日本业者寡占局势，加快推进韩国半导体资料自产化大业。报导称，SK Siltron已于6月完结10nm级第四代(1a)DRAM的抛光晶圆开发，估计2022年下半起开端供给三星、SK海力士等。

  现在运用最广泛的硅晶圆，首要可分为抛光(polished)和磊晶(epitaxial)晶圆两种。抛光晶圆是以高纯度多晶硅加工制作而成，用于DRAM、NAND Flash等，磊晶晶圆则是将厚度几微米(µm)的硅单晶层，蒸镀到抛光晶片上，大多数都用在体系半导体。据悉SK Siltron此次开发并量产的晶圆，首要是用于最新10nm级DRAM。

  三星、SK海力士已在第四代(1a)DRAM导入极紫外光(EUV)制程。EUV是新一代曝光技能，选用荷兰ASML独家出产的设备。因为EUV与现有的光波长，具有不一样特性，因而须选用不一样资料，而开发1a DRAM晶圆的难度相同很高。

  据了解，SK Siltron参加供给之前，只要日本胜高和信越化学可以供给，2021年下半量产1a DRAM的三星、SK 海力士，从前仅运用日本出产的晶圆。

  相关的人说，1a DRAM占比逐渐的提高的情况下，SK Siltron研制成功与量产，无疑协助韩国完成资料供给链多元化，从韩国国产化大业视点而言别具含义。SK海力士传方案2022年末前1a DRAM占比将提高至产值的4分之1左右。

  另一方面，2021年SK Siltron的12英寸晶圆市占率约18%左右，排名业界第三，而胜高市占30%、信越化学市占25%，最近2~3年间SK Siltron正在大幅缩小落后距离。

  关键字：引证地址：韩媒：SK Siltron成功开发EUV DRAM晶圆，将供给给三星、SK海力士

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